低目數(shù)的砂紙，如 40# - 80#，磨粒較大且間距較寬。在磨樣時(shí)，每個(gè)磨粒與試樣表面的接觸面積相對(duì)較大，能夠在單位時(shí)間內(nèi)去除更多的材料，因此對(duì)于去除試樣表面的氧化皮、毛刺、較大的加工余量或進(jìn)行快速粗磨等操作非常有效，能快速將試樣表面的大部分不平整和雜質(zhì)去除，使試樣達(dá)到初步的平整狀態(tài)。

高目數(shù)的砂紙，如 400# 及以上，磨粒非常細(xì)小且排列緊密。在磨樣時(shí)，每個(gè)磨粒去除的材料量很少，因此整體上去除材料的速度相對(duì)較慢。這是因?yàn)榧?xì)砂紙的主要作用不是快速去除大量材料，而是對(duì)已經(jīng)經(jīng)過粗磨的試樣表面進(jìn)行精細(xì)打磨和拋光，以提高表面光潔度和降低表面粗糙度。

如鋁、銅等，一般可以選擇相對(duì)高目數(shù)的砂紙起始磨樣。因?yàn)檐涃|(zhì)材料容易被磨削，低目數(shù)砂紙可能會(huì)過度磨削導(dǎo)致表面不平整，通?？梢詮?100# - 200# 砂紙開始，然后根據(jù)需要逐步使用更高目數(shù)的砂紙進(jìn)行精細(xì)打磨。

對(duì)于一些對(duì)表面平整度和光潔度要求不是特別高的常規(guī)光譜分析，通常將試樣表面磨到 200# - 400# 砂紙的效果即可滿足要求，能去除表面雜質(zhì)并提供相對(duì)平整的表面，使光譜分析能夠順利進(jìn)行。

如用于研究材料微觀結(jié)構(gòu)、微量元素分析等光譜分析，對(duì)試樣表面質(zhì)量要求，需要將試樣表面打磨到非常高的光潔度，可能需要使用 600# 甚至 1000# 以上的砂紙進(jìn)行精細(xì)研磨和拋光，以確保表面的微觀結(jié)構(gòu)和成分不受磨削過程的影響，從而獲得準(zhǔn)確可靠的光譜數(shù)據(jù)。

若使用光譜磨樣機(jī)，要檢查設(shè)備是否正常運(yùn)行，包括砂盤的轉(zhuǎn)速是否穩(wěn)定、電機(jī)有無異常噪音、傳動(dòng)部件是否靈活等。同時(shí)確保磨樣機(jī)的防護(hù)裝置且有效。

使用合適的夾具將試樣牢固地固定在磨樣機(jī)的工作臺(tái)上或手持固定。對(duì)于形狀規(guī)則的試樣，可使用平口鉗等夾具；對(duì)于形狀不規(guī)則的試樣，可能需要定制夾具或采用蠟封等方法進(jìn)行固定，確保在磨樣過程中試樣不會(huì)發(fā)生位移或晃動(dòng)。

對(duì)磨樣后的試樣進(jìn)行檢查，確認(rèn)表面質(zhì)量是否符合光譜分析的要求。如有需要，可使用表面粗糙度測(cè)量?jī)x等設(shè)備對(duì)試樣表面粗糙度進(jìn)行測(cè)量，并記錄相關(guān)數(shù)據(jù)。同時(shí)，對(duì)磨樣過程中的砂紙目數(shù)、磨樣時(shí)間、壓力等參數(shù)進(jìn)行記錄，以便后續(xù)參考和追溯。
目數(shù)與粒度之間存在著反比例關(guān)系。目數(shù)越高，說明篩網(wǎng)的孔越細(xì)，能通過篩網(wǎng)的磨料顆粒就越小，即粒度越小。反之，目數(shù)越低，篩網(wǎng)的孔越大，通過的磨料顆粒就越大，粒度也就越大。在實(shí)際應(yīng)用中，存在一些經(jīng)驗(yàn)性的目數(shù)與粒度對(duì)應(yīng)數(shù)據(jù)，如 100 目的砂紙，其磨料粒度大約為 150μm；200 目的砂紙，粒度約為 75μm；400 目的砂紙，粒度約為 38μm 等。但不同廠家生產(chǎn)的砂紙可能會(huì)存在一定的差異。